折射率拟合

材料的折射率是膜系设计计算与反演拟合的核心基础参数，是建立光学模型和开展精确分析的前提条件。膜层的光学响应、本征干涉行为以及最终光谱特性，均高度依赖于材料折射率数据的准确性。若基板折射率或膜层材料折射率存在偏差，将直接导致膜厚反演误差累积，使拟合结果失真，进而影响调片判断和工艺参数修正的准确性。严重情况下，甚至可能导致膜系设计方向出现系统性偏离。因此，获取高精度、稳定可靠的折射率数据，不仅是实现精确反演拟合的基础保障，也是确保镀膜工艺稳定运行和产品性能达标的关键前提。

• 采用光度法拟合材料的折射率，需要测试透过率、反射率、膜厚中的一种或者多种，在测试数据准确度一样的情况下，数据类型越多，拟合结果的可信度就越高
• 可以是基板或者膜层材料，一般拟合膜层材料折射率时，需要已知基板材料折射率(可以先拟合)
• 多角度光度数据对折射率拟合结果的收敛有帮助。

基板材料

• 超白玻璃；
• 吸收有色玻璃；
• 其它类型的基板材料如晶体、硅片；

无须椭偏仪，有无模型和相应系数均可拟合；

镀膜材料： 介质

• 弱吸收镀膜材料 Nb2O5,Ta2O5,TiO2,SiO2 等；
• 吸收材料:CrOx等；

方便操作，Office兼容操作， 支持多种数据来源

镀膜材料： 金属、导体、 半导体

• Si3N4,ITO,ZnSnOx等；
• Cu,Ag,NiCr等；
• 其它材料

拟合结果准确可验证