术语表 (Glossary)
本术语表提供了 OSC Low-E 软件中使用的技术术语的定义。术语按类别进行组织，方便您查阅。
光学基础 (Optical Basics)
| 英文术语 | 中文术语 | 定义 |
|---|---|---|
| Refractive Index (n) | 折射率 | 描述光在材料中传播快慢的无量纲数值。相对数值越高，说明光传播越慢。 |
| Extinction Coefficient (k) | 消光系数 | 衡量材料对光吸收程度的物理量。也称为复折射率的虚部。 |
| Wavelength (λ) | 波长 | 光波相邻波峰之间的距离，通常以纳米 (nm) 为单位。 |
| Reflectance (R) | 反射率 | 表面反射的入射光比例，通常用百分比 (0-100%) 或比率 (0-1) 表示。 |
| Transmittance (T) | 透过率 | 穿过材料的入射光比例。 |
| Absorbance (A) | 吸收率 | 被材料吸收的入射光比例。满足公式 R + T + A = 1。 |
| Polarization | 偏振 | 光的电场振动方向。S 偏振 (TE) 和 P 偏振 (TM) 是两种正交的偏振态。 |
膜系结构 (Film Stack Structure)
| 英文术语 | 中文术语 | 定义 |
|---|---|---|
| Thin Film | 薄膜 | 厚度从几纳米到几微米范围内的一层材料。 |
| Film Stack | 膜系/膜堆 | 在基板上按特定顺序排列的多个薄膜层。 |
| Substrate | 基板 | 沉积薄膜的基础材料（通常为玻璃）。 |
| Incident Medium | 入射介质 | 光线进入膜系所在的介质（通常为空气）。 |
| Exit Medium | 出射介质 | 光线穿出膜系所在的介质（ 通常为空气）。 |
| Front Stack | 前膜系 | 镀在基板前面/正面的膜层。 |
| Back Stack | 后膜系 | 镀在基板背面/反面的膜层。 |
| Layer Thickness | 膜层厚度 | 单个膜层的物理厚度，单位为纳米 (nm)。 |
| Optical Thickness | 光学厚度 | 物理厚度乘以折射率：n × d。 |
光谱计算 (Spectrum Calculation)
| 英文术语 | 中文术语 | 定义 |
|---|---|---|
| Spectrum Type | 光谱类型 | 光谱计算类别（如反射率或透过率）。 |
| Stack Scope | 计算范围 | 定义计算膜系的哪个部分：前表面膜系 (FrontDesign)、后表面膜系 (BackDesign) 或 整体膜系 (WholeStack)。 |
| Incident Side | 入射方向 | 指示光是从前面（前向）还是背面（反向）入射。 |
| Forward Calculation | 前向计算 | 光从入射介质方向进入。 |
| Backward Calculation | 反向计算 | 光从对立方向进入。 |
| Transfer Matrix Method (TMM) | 传输矩阵法 | 用于计算多层薄膜光学特性的数学计算方法。 |
颜色计算 (Color Calculation)
| 英文术语 | 中文术语 | 定义 |
|---|---|---|
| CIE L*a*b* | CIE Lab 颜色空间 | 由国际照明委员 会 (CIE) 定义的颜色空间，旨在实现感知均匀。 |
| CIE XYZ | CIE XYZ 三刺激值 | 基础的颜色空间模型，其他各类 CIE 颜色空间都由其推导而来。 |
| Chromaticity (x, y) | 色度坐标 | 排除亮度属性的颜色二维坐标表示形式。 |
| Illuminant | 光源/照明体 | 颜色计算中使用的标准光源。常见类型包括：D65（标准日光）、C（平均日光）、A（白炽灯）。 |
| Observer | 观察者 | 颜色计算中使用的标准观察者视角：2° 或 10°。 |
| Color Target | 颜色目标 | 优化过程中期望达到的颜色目标参数。 |
| Color Difference (ΔE) | 色差 | 量化两种颜色在视觉感知上差异的指标。 |
优化算法 (Optimization)
| 英文术语 | 中文术语 | 定义 |
|---|---|---|
| Merit Function | 价值函数 | 量化当前设计与目标接近程度的函数。该值越低说明匹配越好。 |
| Chi-squared (χ²) | 卡方值 | 残差平方和，通常用作优化的价值函数。 |
| Levenberg-Marquardt (LM) | LM 算法 | 一种结合高斯-牛顿法和梯度下降法的基于梯度的优化算法，常用于高效局部优化。 |
| Simplex | 单纯形法 | 一种无导数优化算法，使用几何单纯形在参数空间内进行搜索。 |
| Simulated Annealing (SA) | 模拟退火 | 受冶金退火工艺启发演变的全局概率优化算法。 |
| Differential Evolution (DE) | 差分进化 | 一种使用向量差异进行 变异的群体进化算法。 |
| Ant Colony Optimization (ACO) | 蚁群算法 | 一种受蚂蚁觅食行为启发的群体智能算法。 |
| Jacobian Matrix | 雅可比矩阵 | 在基于梯度的优化中使用的偏导数矩阵。 |
薄膜设计 (Thin Film Design)
| 英文术语 | 中文术语 | 定义 |
|---|---|---|
| Development | 膜系开发 | 设计膜系以满足特定光谱或颜色目标的过程。 |
| Reverse Engineering | 反演拟合 | 根据测量的光谱数据反向推导出各膜层厚度。 |
| Index Fitting | 折射率拟合 | 根据测量的光谱数据反向推导出材料的光学常数 (n, k)。 |
| Spectrum Target | 光谱目标 | 优化算法需要努力达成的期望光谱曲线。 |
| Dispersion Model | 色散模型 | 描述折射率如何随波长变化的数学模型。常用模型包括：Cauchy, Sellmeier, Lorentz。 |
工艺控制 (Process Control)
| 英文术语 | 中文术语 | 定义 |
|---|---|---|
| Rate Factor | 速率因子 | 每个镀膜靶源沉积速率的调整校准参数。 |
| Uniformity | 均匀性 | 薄膜在基板表面各个区域厚度分布的一致程度。 |
| Coating Line | 镀膜线 | 用于在大型玻璃基板上连续进行薄膜沉 积生产的工业设备系统。 |
| Low-E Glass | 低辐射玻璃 | 具有减小热传递效能以及特定薄膜涂层的低发射率玻璃。 |
用户与数据库 (User & Database)
| 英文术语 | 中文术语 | 定义 |
|---|---|---|
| User | 用户 | 在软件中注册的账户，包含用户名、密码和与员工/角色的关联。系统内部使用内部编码（internal id）唯一标识用户，用户名可重复但内部编码不同。 |
| Internal ID | 内部编码 | 系统为每个用户/角色分配的唯一标识符，用于在数据库中关联记录。删除并重新创建相同用户名会生成不同的内部编码，导致原有关联无法恢复。 |
| Local Database | 本机数据库/本地数据库 | 存储在客户端机器上的数据库文件，适用于单机使用或作为同步目标。受机器状态影响（如损坏或丢失），需定期备份。 |
| Remote Database | 远程数据库/主服务器 | 部署在网络服务器上的中央数据库，支持多用户协同。依赖网络连接和授权策略，部分情况下也可能部署在本机（基于授权）。 |
| Primary Database | 主要数据库 | 当前界面或会话中被选定用于读写操作的数据库（本机或远程）。在 UI 中可切换主要数据库，切换后后续增删改查均作用于所选数据库。 |
| Synchronization | 同步 | 在本机与远程数据库之间传输用户、角色及业务数据的过程。同步方向可以是远程→本机或本机→远程，发生冲突时应由管理员按照策略或日志解决。 |
| Role | 角色 | 用于管理权限的实体。角色有内部编码，删除角色会影响与之关联的用户权限，恢复困难，建议通过禁用/修改权限替代删除。 |
| Disable | 禁用 | 推荐的替代删除的账户/角色处理方式。禁用后用户无法登录或使用被限制的功能，但保留其历史数据和关联，便于恢复或审计。 |
| Login Remote Server | 登录远程服务器 | 当选中“登录远程服务器”选项时，系统会使用配置的远程凭证连接远程数据库进行身份验证和授权。 |
| Backup | 备份 | 对本机或远程数据库进行定期备份以防数据丢失。应记录备份位置、频率和恢复步骤，并在文档中提供管理员指导。 |
参考资料 (References)
- CIE (国际照明委员会): https://cie.co.at/
- Optical Thin Films (Macleod, H.A.): 一本关于薄膜光学的综合性专著。
- ISO 9050: 测定光透射率、太阳光直接透射率及其相关玻璃属性的国际标准。