術語表 (Glossary)
本術語表提供了 OSC Low-E 軟體中使用的技術術語定義。術語按類別進行整理，便於查閱。
光學基礎 (Optical Basics)
| 英文術語 | 中文術語 | 定義 |
|---|---|---|
| Refractive Index (n) | 折射率 | 描述光在材料中傳播快慢的無量綱數值。相對數值越高，表示光傳播越慢。 |
| Extinction Coefficient (k) | 消光係數 | 衡量材料對光吸收程度的物理量，也稱為複折射率的虛部。 |
| Wavelength (λ) | 波長 | 光波相鄰波峰之間的距離，通常以奈米 (nm) 為單位。 |
| Reflectance (R) | 反射率 | 表面反射的入射光比例，通常以百分比 (0-100%) 或比率 (0-1) 表示。 |
| Transmittance (T) | 透過率 | 穿過材料的入射光比例。 |
| Absorbance (A) | 吸收率 | 被材料吸收的入射光比例，滿足公式 R + T + A = 1。 |
| Polarization | 偏振 | 光的電場振動方向。S 偏振 (TE) 與 P 偏振 (TM) 為兩種正交偏振態。 |
膜系結構 (Film Stack Structure)
| 英文術語 | 中文術語 | 定義 |
|---|---|---|
| Thin Film | 薄膜 | 厚度從數奈米到數微米範圍內的一層材料。 |
| Film Stack | 膜系/膜堆 | 在基板上按特定順序排列的多層薄膜。 |
| Substrate | 基板 | 沉積薄膜的基礎材料（通常為玻璃）。 |
| Incident Medium | 入射介質 | 光線進入膜系所在的介質（通常為空氣）。 |
| Exit Medium | 出射介質 | 光線穿出膜系所在的介質（通常為空氣）。 |
| Front Stack | 前膜系 | 鍍在基板前面/正面的膜層。 |
| Back Stack | 後膜系 | 鍍在基板背面/反面的膜層。 |
| Layer Thickness | 膜層厚度 | 單一膜層的物理厚度，單位為奈米 (nm)。 |
| Optical Thickness | 光學厚度 | 物理厚度乘以折射率：n × d。 |
光譜計算 (Spectrum Calculation)
| 英文術語 | 中文術語 | 定義 |
|---|---|---|
| Spectrum Type | 光譜類型 | 光譜計算類別（如反射率或透過率）。 |
| Stack Scope | 計算範圍 | 定義計算膜系的哪一部分：前表面膜系 (FrontDesign)、後表面膜系 (BackDesign) 或整體膜系 (WholeStack)。 |
| Incident Side | 入射方向 | 指示光是從前面（前向）或背面（反向）入射。 |
| Forward Calculation | 前向計算 | 光從入射介質方向進入。 |
| Backward Calculation | 反向計算 | 光從對立方向進入。 |
| Transfer Matrix Method (TMM) | 傳輸矩陣法 | 用於計算多層薄膜光學特性的數學計算方法。 |
顏色計算 (Color Calculation)
| 英文術語 | 中文術語 | 定義 |
|---|---|---|
| CIE Lab* | CIE Lab 顏色空間 | 由國際照明委員會 (CIE) 定義的顏色空間，旨在實現知覺均勻。 |
| CIE XYZ | CIE XYZ 三刺激值 | 基礎的顏色空間模型，其他各類 CIE 顏色空間皆由其推導。 |
| Chromaticity (x, y) | 色度座標 | 排除亮度屬性的顏色二維座標表示形式。 |
| Illuminant | 光源/照明體 | 顏色計算中使用的標準光源。常見類型包括：D65（標準日光）、C（平均日光）、A（白熾燈）。 |
| Observer | 觀察者 | 顏色計算中使用的標準觀察者視角：2° 或 10°。 |
| Color Target | 顏色目標 | 最佳化過程中期望達成的顏色目標參數。 |
| Color Difference (ΔE) | 色差 | 量化兩種顏色在視覺感知上差異的指標。 |
最佳化 (Optimization)
| 英文術語 | 中文術語 | 定義 |
|---|---|---|
| Merit Function | 價值函數 | 量化當前設計與目標接近程度的函數。該值越低，表示匹配越好。 |
| Chi-squared (χ²) | 卡方值 | 殘差平方和，通常用作最佳化的價值函數。 |
| Levenberg-Marquardt (LM) | LM 演算法 | 一種結合高斯-牛頓法與梯度下降法的梯度式最佳化演算法，常用於 高效局部最佳化。 |
| Simplex | 單純形法 | 一種無導數最佳化演算法，使用幾何單純形在參數空間中搜尋。 |
| Simulated Annealing (SA) | 模擬退火 | 受冶金退火程序啟發的全域概率最佳化演算法。 |
| Differential Evolution (DE) | 差分演化 | 一種使用向量差異進行變異的群體演化演算法。 |
| Ant Colony Optimization (ACO) | 蟻群演算法 | 一種受螞蟻覓食行為啟發的群體智慧演算法。 |
| Jacobian Matrix | 雅可比矩陣 | 在梯度式最佳化中使用的偏導數矩陣。 |
薄膜設計 (Thin Film Design)
| 英文術語 | 中文術語 | 定義 |
|---|---|---|
| Development | 膜系開發 | 設計膜系以滿足特定光譜或顏色目標的流程。 |
| Reverse Engineering | 反演擬合 | 根據量測光譜資料反向推導各膜層厚度。 |
| Index Fitting | 折射率擬合 | 根據量測光譜資料反向推導材料光學常數 (n, k)。 |
| Spectrum Target | 光譜目標 | 最佳化演算法需要努力達成的期望光譜曲線。 |
| Dispersion Model | 色散模型 | 描述折射率如何隨波長變化的數學模型，常見模型包括 Cauchy、Sellmeier、Lorentz。 |
製程管控 (Process Control)
| 英 文術語 | 中文術語 | 定義 |
|---|---|---|
| Rate Factor | 速率因子 | 各鍍膜靶源沉積速率的調整校準參數。 |
| Uniformity | 均勻性 | 薄膜在基板表面各區域厚度分佈的一致程度。 |
| Coating Line | 鍍膜線 | 用於在大型玻璃基板上連續進行薄膜沉積生產的工業設備系統。 |
| Low-E Glass | 低輻射玻璃 | 具備降低熱傳遞效能與特定薄膜塗層的低發射率玻璃。 |
使用者與資料庫 (User & Database)
| 英文術語 | 中文術語 | 定義 |
|---|---|---|
| User | 使用者 | 在軟體中註冊的帳號，包含使用者名稱、密碼及與員工/角色的關聯。系統內部以內部編碼（internal id）唯一識別使用者，使用者名稱可重複但內部編碼不同。 |
| Internal ID | 內部編碼 | 系統為每位使用者/角色分配的唯一識別符，用於資料庫關聯。刪除後重建同名帳號會產生不同內部編碼，原關聯無法恢復。 |
| Local Database | 本機資料庫/本地資料庫 | 儲存在客戶端機器上的資料庫檔案，適用於單機使用或作為同步目標。受機器狀態影響（如損壞或遺失），需定期備份。 |
| Remote Database | 遠端資料庫/主伺服器 | 部署於網路伺服器上的集中式資料庫，支援多人協作。依賴網路連線與授權策略，部分情況也可部署於本機（依授權而定）。 |
| Primary Database | 主要資料庫 | 目前介面或工作階段中被選 定為讀寫操作的資料庫（本機或遠端）。於 UI 可切換主要資料庫，切換後後續增刪改查均作用於所選資料庫。 |
| Synchronization | 同步 | 在本機與遠端資料庫間傳輸使用者、角色與業務資料的流程。同步方向可為遠端→本機或本機→遠端，衝突時應由管理者依策略或日誌處理。 |
| Role | 角色 | 用於管理權限的實體。角色具有內部編碼，刪除角色會影響關聯使用者權限且恢復困難，建議以禁用/調整權限替代刪除。 |
| Disable | 禁用 | 建議優先使用的刪除替代方式。禁用後使用者無法登入或使用受限功能，但保留歷史資料與關聯，便於恢復或稽核。 |
| Login Remote Server | 登入遠端伺服器 | 選擇「登入遠端伺服器」後，系統會使用設定的遠端憑證連線遠端資料庫進行身分驗證與授權。 |
| Backup | 備份 | 對本機或遠端資料庫進行定期備份以防資料遺失。應記錄備份位置、頻率與還原步驟，並在文件中提供管理者指引。 |
參考資料 (References)
- CIE（國際照明委員會）：https://cie.co.at/
- Optical Thin Films (Macleod, H.A.)：一本關於薄膜光學的綜合性專著。
- ISO 9050：測定光透射率、太陽光直接透射率及其相關玻璃屬性的國際標準。