薄膜系统介绍
薄膜系统介绍
本章介绍 OSC Low-E 软件涉及的薄膜光学系统基础知识，帮助用户理解软件中的各种计算和操作。
膜系结构
OSC Low-E 的膜系结构由五个主要部分组成。光线从下往上传播，依次穿过各层：
- 入射介质 (Incident Medium)：光线射入的介质，通常为空气
- 前膜系 (Front Stack)：镀在基板前表面的薄膜层组
- 基板 (Substrate)：承载薄膜的玻璃基底
- 后膜系 (Back Stack)：镀在基板后表面的薄膜层组
- 出射介质 (Exit Medium)：光线射出的介质，通常为空气
膜层编号规则
重要
OSC Low-E 严格遵循以下物理定义，与光线入射方向无关：
- 第 1 层 (Layer 1)：始终是最靠近基板 (Substrate) 的那一层
- 第 N 层 (Layer N)：始终是最远离基板 (最靠近入射/出射介质) 的那一层
前膜系与后膜系定义：
- 前膜系 (Front Stack)：位于基板前表面。Layer 1 紧贴基板，Layer N 紧贴入射介质
- 后膜系 (Back Stack)：位于基板后表面。Layer 1 紧贴基板，Layer N 紧贴出射介质
光谱计算类型
OSC Low-E 支持 12 种基础光谱计算类型，分为三大类：
A. 前膜系计算 (Front Stack Design)
仅考虑 入射介质 + 前膜系 + 基板。
| 类型 | 英文名称 | 说明 |
|---|---|---|
| 前向反射 | FrontDesignRfront | 光从入射介质进入，测量反射率 R |
| 前向透射 | FrontDesignTfront | 光从入射介质进入，测量透射率 T |
| 反向反射 | FrontDesignRback | 光从基板进入，测量反射率 R' |
| 反向透射 | FrontDesignTback | 光从基板进入，测量透射率 T' |
B. 后膜系计算 (Back Stack Design)
仅考虑 基板 + 后膜系 + 出射介质。
| 类型 | 英文名称 | 说明 |
|---|---|---|
| 前向反射 | BackDesignRfront | 光从基板进入，测量反射率 R |
| 前向透射 | BackDesignTfront | 光从基板进入，测量透射率 T |
| 反向反射 | BackDesignRback | 光从出射介质进入，测量反射率 R' |
| 反向透射 | BackDesignTback | 光从出射介质进入，测量透射率 T' |
C. 全膜系计算 (Whole Stack Design)
考虑完整系统：入射介质 + 前膜系 + 基板 + 后膜系 + 出射介质。
| 类型 | 英文名称 | 说明 |
|---|---|---|
| 前向反射 | WholeStackRfront | 光从入射介质进入，测量总反射率 R |
| 前向透射 | WholeStackTfront | 光从入射介质进入，测量总透射率 T |
| 反向反射 | WholeStackRback | 光从出射介质进入，测量总反射率 R' |
| 反向透射 | WholeStackTback | 光从出射介质进入，测量总透射率 T' |
提示
全膜系计算会把"基板厚度"作为一个有限厚度层，因此会包含基板的非相干效应（干涉效应被平均）。
相关术语
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