膜厚反演（光谱 → 膜厚）
膜厚反演是通过拟合优化算法，从原位测量的光谱数据中提取出各层膜的实际厚度，用于评价镀膜均匀性和偏差状态。
介绍
膜厚反演（也称"光谱反演"）利用薄膜光学模型，对测量到的反射光谱或透射光谱进行非线性拟合，从而推算出最可能匹配该光谱的各层膜厚数值。
输入：各横向测试位置的测量光谱
输出：各位置的分层膜厚数值（横向分布曲线）
系统使用后端 gRPC 服务封装的拟合算法（Levenberg-Marquardt 等），并支持以标准膜系的设计膜厚为初始寻优点。
操作方法
- 确认已导入或读取了当前的测量光谱（在光谱容器中可看到各测试位置的 光谱）。
- 在工具栏点击 膜厚反演 按钮，选择参与反演的测试位置范围。
- 配置反演参数：
- 参与膜层（全部层 / 指定层）
- 膜厚初始值（默认使用标准膜系设计值）
- 拟合停止条件（迭代次数或残差阈值）
- 点击 开始反演，等待进度条完成。
- 反演完成后，膜厚结果将展示为各位置的横向分布曲线，可与标准值进行对比。
- 确认结果合理后，点击 保存速率系数 将当次反演的速率系数存档。
注意事项
- 反演质量依赖于光谱信噪比：若测量光谱质量较差（噪声大、基线漂移），反演结果误差会显著增大。
- 拟合初始值对收敛速度有显著影响，建议使用接近实际值的初始膜厚。
- 若某位置的拟合残差明显偏高（界面会标红），需人工检查该位置的光谱质量。
- 反演结果中出现负值或极端值时，请检查材料库的 n、k 数据是否正确。