工艺反演记录用于保存反演设计阶段的关键输入与结果，便于后续复用和追溯。
记录内容
- 反演使用的目标光谱与条件设置
- 反演得到的膜厚或参数结果
- 操作用户、主机和时间信息
- 关联 配置与批次（如存在）
操作方法
- 在 反演设计 页面导入目标光谱并执行反演。
- 保存反演结果时，系统自动写入工艺反演记录。
- 进入 数据管理 -> 工艺反演记录 查询历史记录。
- 需要复用时，可将历史结果作为后续调整的输入参考。
注意事项
- 反演记录是后续参数调整的重要依据，请避免随意删除。
- 比较不同批次反演时，应统一算法参数和边界条件。
- 若结果波动较大，建议先排查输入光谱质量和材料库参数。