包络法进行单层膜折射率拟合

简介

包络法适用于光谱极值特征明显的单层膜样品。

该方法通过上、下包络趋势来估计折射率变化，适合透明或弱吸收单层材料。

流程

1. 获取单层膜样品的透过率/反射率光谱数据。
2. 确认目标波段内具有清晰的峰谷包络特征。
3. 导入光谱并设置膜厚初值、基板参数等基础条件。
4. 选择包络法相关设置并执行拟合。
5. 检查 n/k 曲线与误差指标，确认后保存结果。

例子

以 SiNx 单层无保护层材料为例，可按以下步骤执行完整实战：

1. 启动模块并加载拟合配置模板（例如 s001），避免从空白参数开始。
2. 导入测量光谱（示例：玻璃编号 500100、靶位 150）。
3. 在光谱目标面板生成并应用目标，确认“使用”列已勾选。
4. 设置无保护层模式，并设定厚度搜索范围（如 20~50 nm、步长 1 nm）。
5. 设定起始折射率与停止条件（如目标函数值(MF)阈值、最大优化次数）。
6. 启动优化，观察误差收敛过程。
7. 在“拟合结果”中加载候选结果，并检查膜厚与 n 曲线是否合理。
8. 将满意结果保存到数据库或导出为表格文件。

注意事项

• 包络法对噪声和基线漂移敏感，必要时先做数据预处理。
• 膜厚初值偏差过大时，容易陷入局部最优。
• 不可以用于多层膜结构或包络特征不明显的数据。