光谱计算 (Spectrum Calculation)

“光谱计算”是指从已知的膜层厚度和材料参数出发，利用光学模型（TMM）正向推导、模拟其光谱表现的过程。常用于“假设分析”。

介绍

光谱计算（正向计算）允许工程师在不进行实际生产的情况下，预判厚度波动对产品颜色的影响：

• 核心逻辑：基于转矩矩阵法 (Transfer Matrix Method)。
• 输入数据：
  • 当前膜厚：可以是标准厚度、反演厚度或用户在“调整面板”输入的模拟厚度。
  • 光学环境：入射角（AoI）、偏振态（S/P/Avg）、采样范围。
• 输出数据：生成的 R/T 光谱曲线，存于“计算光谱”容器中。

操作方法

1. 设置计算条件：
   • 打开“光谱计算设置”视图。
   • 选择 计算入射角（如 0° 或 45°）。
   • 设置 波长步长（推荐 1nm 以保证色彩计算准确）。
2. 选择厚度源：
   • 指定系统应当根据哪个厚度字段进行模拟（例如：根据“调整后厚度”计算）。
3. 执行计算：
   • 点击 由膜厚计算光谱。
4. 对比分析：
   • 在光谱图中开启“计算谱”图例。
   • 对比模拟出的光谱与设计标准（Standard）之间的重叠度，以此判断当前参数调整是否能使透射率或反射色达到要求。

注意事项

• 光学常数 (n, k)：计算的准确度高度依赖于材料库中 n/k 数据的时效性。
• 性能提示：大范围、高分辨率（如 300-3000nm @ 1nm步长）的计算会消耗更多计算资源，后端会采用并行计算处理多位置任务。
• 非线性效应：正向计算是理论模拟，未考虑真实的生产噪声（如散射、基底表面粗糙度等）。
• 推荐先用少量关键位置验证趋势，再扩大到全位置批量计算。