光谱计算 (Spectrum Calculation)
“光谱计算”是指从已知的膜层厚度和材料参数出发，利用光学模型（TMM）正向推导、模拟其光谱表现的过程。常用于“假设分析”。
介绍
光谱计算（正向计算）允许工程师在不进行实际生产的情况下，预判厚度波动对产品颜色的影响：
- 核心逻辑：基于转矩矩阵法 (Transfer Matrix Method)。
- 输入数据：
- 当前膜厚：可以是标准厚度、反演厚度或用户在“调整面板”输入的模拟厚度。
- 光学环境：入射角（AoI）、偏振态（S/P/Avg）、采样范围。
- 输出数据：生成的 R/T 光谱曲线，存于“计算光谱”容器中。
操作方法
- 设置计算条件：
- 打开“光谱计算设置”视图。
- 选择 计算入射角（如 0° 或 45°）。
- 设置 波长步长（推荐 1nm 以保证色彩计算准确）。
- 选择厚度源：
- 指定系统应当根据哪个厚度字段进行模拟（例如：根据“调整后厚度”计算）。
- 执行计算：
- 点击 由膜厚计算光谱。
- 对比分析：
- 在光谱图中开启“计算谱”图例。
- 对比模拟出的光谱与设计标准（Standard）之间的重叠度，以此判断当前参数调整是否能使透射率或反射色达到要求。
注意事项
- 光学常数 (n, k)：计算的准确度高度依赖于材料库中 n/k 数据的时效性。
- 性能提示：大范围、高分辨率（如 300-3000nm @ 1nm步长）的计算会消耗更多计算资源，后端会采用并行计算处理多位置任务。
- 非线性效应：正向计算是理论模拟，未考虑真实的生产噪声（如散射、基底表面粗糙度等）。 逐位置计算反射/透射谱。输出的光谱可存储到光谱容器中，与测量光谱叠加对比。
适用场景：
- 验证反演出的膜厚是否合理（计算谱与测量谱对比）
- 模拟参数调整后预期产品的光谱外观
操作方法
- 准备膜厚数据（来自反演、手动输入或预测计算）。
- 在工具栏点击 光谱计算。
- 选择参与计算的测试位置范围。
- 配置计算条件：
- 计算光谱类型（R / T / ψ、Δ 等）
- 入射角度与偏振态
- 选择结果存入的目标光谱容器（ 可选择新建容器或覆盖现有）。
- 点击 开始计算，进度条完成后结果自动填入目标容器。
注意事项
- 计算精度依赖于材料 n、k 数据的准确性；请确认材料库中当前波长范围内的数据完整且来自可靠来源。
- 大量位置的批量计算可能需要数秒，请等待进度条